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物理蒸鍍法制備蒸鍍型機用纏繞膜的過程
編輯:臨朐縣益泰興塑料制品加工廠   發布時間:2020-10-20

  據了解,蒸鍍氧化硅類型的隔斷性纏繞膜的制作方法,有物理蒸鍍(PVC)和化學蒸鍍(CVC)兩個大類。根據具體實施方法的不同,又有種種不同的方法。本文臨朐縣益泰興塑料制品加工廠小編為大家解析其中物理蒸鍍(PVC)的方法過程:

  物理蒸鍍也可稱之為物理氣相沉積法,其包括了電阻絲蒸鍍、電子束蒸鍍與濺射等等。其中電阻蒸鍍與電子束蒸鍍需要在高溫狀態下使 SIO氣化。而濺射沉積運用單元素靶材進行濺射,有著沉積溫度較低,沉積速率高,靶材不受限制,鍍膜質量良好的優點。

  1、電阻絲蒸鍍法:

  電阻絲蒸發鍍法是在真空室之中,用電阻絲加熱S0,溫度可達1700℃,高溫及真空使 SIO2的以原子或分子的形態從其表面氣化逸出,形成蒸氣流,此蒸氣流在素材的表面沉積,形成了含SIOX鍍層的隔斷式機用纏繞膜。

  2、電子束蒸發鍍膜的方法:

  該法是將SI0,放入到水冷銅堆鍋之中,直接用電子束進行加熱,使其蒸發氣化,而后凝結在基材的表面上形成含SIOX鍍層的隔斷性包裝纏繞膜。電子束轟擊了熱源的束流,其密度高,能夠獲得比電阻加熱源還大的能量密度,蒸發的溫度較高(電子束加熱的能量約達20KW/CM2,溫度更可達3000-6000℃),因而相當適合制作高熔點纏繞膜類材料和高純纏繞膜材料,而且有相當高的蒸發速度。由于熱量可以直接加入到蒸鍍材料的表面,因而熱效率高,熱傳導與熱輻射的損失少,所生產的SIOX隔斷性機用纏繞膜的隔斷性,較之電阻絲蒸鍍法生產的產品,也有顯明提高。

  3、濺射法:

  濺射法亦稱磁控濺射法或高速低溫濺射法。

  用單元素靶材濺射并通入反應氣體,進行的反應稱之為反應濺射,經過調節沉積的工藝參數,可制備化學配比或非化學配比的化合物纏繞膜,從而達到調節了纏繞膜鍍層的構成以調控機用纏繞膜性能的目的。磁控濺射法和蒸發法進行比較,有著鍍膜層和基材的結合力強,鍍膜層致密、均勻等優點。磁控濺射的其它優點有設備簡單,操作方便等等,在濺射鍍膜的過程之中,只要保持工作氣壓與濺射功率的恒定,基本便可獲得較為穩定的沉積速率。磁控濺射的較大缺點是沉積的速率較低,此外可能會發生靶的損害,引起的打火和濺射過程不穩定及膜缺陷等等,這些問題制約了它的實際運用,尚有待進一步改進。

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